美国NXQ紫外掩膜光刻机作用原理是怎样的
更新时间：2022-12-02 点击次数：539次
光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上，然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机，带有图形的石英板称为掩膜，光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。
美国NXQ紫外掩膜光刻机原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。
美国NXQ紫外掩膜光刻机一般根据操作的简便性分为三种类型：
手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
自动：指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
美国NXQ紫外掩膜光刻机性能指标有以下这些？
对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
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