Model 800E紫外掩膜光刻机

一、美国OAI公司介绍：

OAI是一家位于美国硅谷的先进精密设备制造商，有着40多年的研发、制造经验。该公司生产的产品用于 MEMS、半导体、纳米技术、微流体、MicroTAS、平板和光伏/太阳能行业。 并提供广泛的经过现场验证的产品组合，包括：掩模对准器、UV 曝光系统、UV 光源、纳米压印模块、晶圆键合机、UV 臭氧表面处理系统、边缘珠曝光系统、晶圆分选机、太阳能模拟器 & IV 测试系统和众多定制设计的解决方案。 这些产品有着良好的性能、高度的多功能性和出色的可靠性，在全球的市场中赢得了客户的青睐。

二、Model 800E紫外掩膜光刻机产品特点：

（1）多种光谱范围可供选择：汞灯：G（436nm）、H（405nm）、I（365nm）和310nm线，Hg-Xe灯：260nm和220nm。

（2）适用基片尺寸范围：4英寸~ 12英寸直径晶圆片；

（3）紫外灯功率范围：200~2000W；

（4）使用上下双CCD Gigi相机和电动X-Y-Z-Theta平台进行手动对准，带操纵杆/配方操作。

（5）通过 Cognex 软件升级升级到 Auto Alignment。

（6）自动楔补偿和带编码器的电动z轴和3点调平升级选项；

（7）红外光学背面对齐选择升级；

（8）使用1TB电脑进行PC操作和配方存储；

（9）接近（20um）：<3.0um，软接触：<2.0um，硬接触：1um，真空接触：≤0.6um。

（10）提供0.5-1um的正反面曝光和对位精度。

（11）可用于半自动化/研发和小批量生产模式。

（12）适用于生物、MEMS、半导体、微流体、纳米压印和CLiPP工艺。

三、OAI的Model 800E紫外掩膜光刻机与 Suss 的 Model MA6光刻机参数对比：