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紫外正性光刻胶

更新时间:2022-09-01

访问量:208

厂商性质:代理商

生产地址:国外

简要描述:
紫外正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解抑制剂存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,最常见的是重氮萘醌(DNQ)。
品牌其他品牌供货周期一周
应用领域环保,化工,能源,电子,航天

一、紫外正性光刻胶简介:

正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛,提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性,当没有溶解抑制剂存在时,线性酚醛树脂会溶解在显影液中,感光剂是光敏化合物,最常见的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一种强烈的溶解抑制剂,降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻胶中化学分解,成为溶解度增强剂,大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸,它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率。


二、紫外正性光刻胶产品清单:

品牌
产地型号厚度耐热温度应用
Futurrex美国PR1-500A0.4μm~0.9μm耐热温度=110 ℃



湿刻、反应离子束刻蚀、
离子植入、电镀
PR1-1000A0.7μm~2.0μm
PR1-1500A1.3μm~3.0μm
PR1-2000A1.7μm~4.0μm
PR1-4000A3.7μm~10.0μm
PR1-12000A10.0μm~25.0μm
Micro Resist德国ma-P 1200系列0.5~50μm胶厚
非常适合作为刻蚀掩模抗干刻、湿刻性能;

优异的电镀性能(酸和碱性镀液中*的稳定性)光刻胶图案良好的热稳定性;

碱性水溶液下显影;
宽带、g或i线曝光;

















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