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电子束及深紫外光刻胶

更新时间:2022-09-01

访问量:425

厂商性质:代理商

生产地址:德国

简要描述:
德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束及深紫外光刻胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。
品牌其他品牌供货周期一周
应用领域化工,电子,印刷包装,航天,电气

一、简介

德国Micro Resist公司创立于1993年.公司生产的高性能各种用于微纳制作的光刻胶,除了生产用于i、g和h线的光刻胶以外,还有电子束及深紫外光刻胶和纳米压印胶以及专门用于光学波导制作的光胶可供选择。

武汉月忆神湖科技有限公司简称“武汉月忆",是中国大陆的一家创新型科技公司,总部位于九省通衢-湖北武汉。主营实验室仪器、试剂耗材等,旨在为半导体芯片制造、MEMS、钙钛矿太阳能电池以及微流体芯片制造等领域的广大科研工作者提供专业的解决方案和性能优异的产品,在仪器仪表-实验仪器装置行业获得广大客户的认可。公司秉承“精工品质,用心服务"的经营理念,坚持“以客户服务为中心"的原则为广大客户提供优质的服务。


二、电子束及深紫外光刻胶产品介绍:

品牌产地
型号曝光特点
Micro Resist德国ma-N 2400系列电子束

和深紫

外曝光

电子束和深紫外灵敏;
非常适合作为刻蚀掩模,抗干刻、湿刻性能;
图案良好的热稳定性;
优异的图案分辨率-50 nm以下;
碱性水溶液下显影;
mr-EBL 6000电子束曝光
电子束和深紫外灵敏;
非常适合作为刻蚀掩模,抗干刻、湿刻性能;
光胶图案良好的热稳定性;
优异的图案分辨率-80 nm以下;碱性水溶液下显;

















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