产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > > RTP退火炉 > RTP-500V快速热处理退火炉

快速热处理退火炉

更新时间:2022-09-01

访问量:342

厂商性质:代理商

生产地址:中国

简要描述:
快速热处理(RTP)是将晶片快速加热到设定温度,进行短时间快速热处理的方法。
RTP快速热处理退火炉系统采用辐射热源对晶片进行一片一片的加热,温度测量和控制通过高温计完成热处理时间通常小于1~2分钟,可用于氧化、退火、金属硅化物的形成和快速热化学沉积。
品牌其他品牌价格区间10万-30万
仪器种类真空炉产地类别国产
应用领域化工,电子,印刷包装,航天,综合

一、RTP快速热处理退火炉简介

快速热处理(RTP)是将晶片快速加热到设定温度,进行短时间快速热处理的方法。

RTP系统采用辐射热源对晶片进行一片一片的加热,温度测量和控制通过高温计完成热处理时间通常小于1~2分钟,可用于氧化、退火、金属硅化物的形成和快速热化学沉积,RTP系统中,热源直接面对晶片表面,因此在处理大直径晶片时不会影响工艺处理的均匀性和升(降)温速度。RTP系统还有晶片旋转功能使热处理均匀性更佳。RTP已逐渐成为先进半导体制造常见的一项工艺。

637859080693702699192.jpg

二、RTP500V真空快速热处理退火炉技术参数:

(1)温度范围:100 – 1300 ℃

(2)升温速率:2 – 220 ℃/秒可调

(3)密封石英腔内面尺寸:215 X 140X 14 毫米;

(4)样品最大尺寸:4英寸

(5)计算机控制系统:PC 机控制;

(6)软件:快速热处理编程控制软件RTP-500的控制软件;

(7)程序:①可编程温度曲线存储1500 条以上;

                   ②每条曲线包括100段以上, 温度设定范围 25—1300℃ ;

                   ③每段时间设定范围1—30000 秒;

                   ④数据可导出为文本文件便于数据处理,自动优化温控;

(8)温度设定范围:100-1300℃

(9)温度重复性:±1℃,6区控温;

(10)测温精确度:100-1300全温度段精度>0.5%

(11)测温装置:K型热电偶;

(12)温度曲线:自动记录,保存,文本格式转换,支持彩色分页打印;

(13)真空系统:一路MFC流量控制,极限真空度0.1Pa,德国THERMOVAC真空测量仪;

(14)1000℃连续工作时间:双闭环温度控制,  稳态温度稳定性±2℃ ,1000℃连续工作>1小时;

(15)光源:1.25KW X 13 卤钨灯

(16)电源:380 V  40A 三相 四线(三火线, 零线),50/60Hz;

(17)冷却装置:自来水或循环水, 水压 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分

(18)冷却方式:水冷、风冷、气冷;

(19)安全装置:过温报警,过热报警,过热自动保护,水压报警,水压异常自动保护;


637859080889313330723.jpg










留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
    没有相关产品信息...

联系我们

contact us

咨询电话

13277928895

微信客服

返回顶部