URE-2000/35NI纳米压印光刻机

URE-2000/35NI纳米压印光刻机 产品特征：

（1）采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应实现均匀照明;

（2）采用350W进口直流汞灯作光源,可调节光的能量密度;

（3）曝光波长纯净，365nm;

（4）快门可以单独开启,也可以数字设定自动倒计时曝光;

（5）采用三爪式自动找平技术,无论大片、小片调平精度均高;

（6）具备真空接触曝光、硬接触曝、接近和接触式曝光四种模式;

（7）自动分离对准间隙和消除曝光间隙,间隙分离可达500 um;

（8）电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力;

（9）配置高倍率双目双视场显微镜与22英寸宽屏液晶显示器,可通过显微镜目视和显示器同时观察对准过程，既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果;

（10）对准完成，自动消除曝光间隙,无横向漂移且可通过监视器观察;

（11）上下片、版十分方便，自动化程度高，操作简便;

（12）压印技术采用成熟的紫外固化纳米压印制作工艺;

（13）低成本实现高分辨力纳米图形制作;

（14）“一键式"操作模式完成纳米压印工艺;

（15）采用高精度视频对准技术实现复杂图形套刻制作(兼容光刻部分);

（16）高精度驱动机构可实现纳米图形多次套刻(兼容光刻部分);

（17）照明技术实现纳米图形精准固化(兼容光刻部分);

（18）压印模块独立设计,可嵌入传统光刻设备实现纳米压印;

（19）设备性能可靠，操作界面友好，可满足客户个性化定制需求;

URE-2000/35NI纳米压印光刻机 主要技术参数:

（1）曝光面积：110mm×110mm

（2）光刻分辨力：1μm(胶厚1.5μm的正胶)

（3）照明不均匀性：≤3%(φ100mm范围)

（4）照明面光强：>30mW/cm²

（5）光刻掩模尺寸：2.5、3、4、5英寸

（6）光刻基片尺寸:直径φ15mm—φ100mm（可适应非标准片或碎片)，厚度0.1--6mm

（7）对准精度：土0.8μm，可数字设定曝光间隙和对准间隙；

（8）曝光方式：定时(倒计时方式0.1—999.9秒)；

（9）压印分辨力：50nm（用户提供条件)

（10）最大压印面积：φ75mm(其余尺寸需定制)

（11）压印掩模尺寸：3英寸、4英寸(其余尺寸需定制)

（12）压印承片台尺寸：2英寸、3英寸（其余尺寸需定制）

（13）紫外固化光源：与光刻部分兼容；

（14）其他：压印压力及紫外固化时间均可精准控制；