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URE-2000/35NI纳米压印光刻机

更新时间:2024-01-02

访问量:1083

厂商性质:代理商

生产地址:中国

简要描述:
URE-2000/35NI纳米压印光刻机 :
(1)曝光面积:110mm×110mm
(2)光刻分辨力:1μm(胶厚1.5μm的正胶)
(3)照明不均匀性:≤3%(φ100mm范围)
(4)照明面光强:>30mW/cm2
设备外形美观精制,性能非常可靠,自动化程 度很高,操作十分方便。非常适合工厂(效率高,自动化程度高)和高校教学科研 (可靠性好,演示方便)。
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URE-2000/35NI纳米压印光刻机 产品特征:

(1)采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应实现均匀照明;

(2)采用350W进口直流汞灯作光源,可调节光的能量密度;

(3)曝光波长纯净,365nm;

(4)快门可以单独开启,也可以数字设定自动倒计时曝光;

(5)采用三爪式自动找平技术,无论大片、小片调平精度均高;

(6)具备真空接触曝光、硬接触曝、接近和接触式曝光四种模式;

(7)自动分离对准间隙和消除曝光间隙,间隙分离可达500 um;

(8)电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力;

(9)配置高倍率双目双视场显微镜与22英寸宽屏液晶显示器,可通过显微镜目视和显示器同时观察对准过程,既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果;

(10)对准完成,自动消除曝光间隙,无横向漂移且可通过监视器观察;

(11)上下片、版十分方便,自动化程度高,操作简便;

(12)压印技术采用成熟的紫外固化纳米压印制作工艺;

(13)低成本实现高分辨力纳米图形制作;

(14)“一键式"操作模式完成纳米压印工艺;

(15)采用高精度视频对准技术实现复杂图形套刻制作(兼容光刻部分);

(16)高精度驱动机构可实现纳米图形多次套刻(兼容光刻部分);

(17)照明技术实现纳米图形精准固化(兼容光刻部分);

(18)压印模块独立设计,可嵌入传统光刻设备实现纳米压印;

(19)设备性能可靠,操作界面友好,可满足客户个性化定制需求;


URE-2000/35NI纳米压印光刻机 主要技术参数:

(1)曝光面积:110mm×110mm

(2)光刻分辨力:1μm(胶厚1.5μm的正胶)

(3)照明不均匀性:≤3%(φ100mm范围)

(4)照明面光强:>30mW/cm2

(5)光刻掩模尺寸:2.5、3、4、5英寸

(6)光刻基片尺寸:直径φ15mm—φ100mm(可适应非标准片或碎片),厚度0.1--6mm

(7)对准精度:土0.8μm,可数字设定曝光间隙和对准间隙;

(8)曝光方式:定时(倒计时方式0.1—999.9秒);

(9)压印分辨力:50nm(用户提供条件)

(10)最大压印面积:φ75mm(其余尺寸需定制)

(11)压印掩模尺寸:3英寸、4英寸(其余尺寸需定制)

(12)压印承片台尺寸:2英寸、3英寸(其余尺寸需定制)

(13)紫外固化光源:与光刻部分兼容;

(14)其他:压印压力及紫外固化时间均可精准控制;

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