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等离子去胶机

更新时间:2024-01-05

访问量:177

厂商性质:代理商

生产地址:中国

简要描述:
【等离子去胶机】是专为处理晶圆、硅片去胶,清洗,活化而设计的一种真空等离子系统, 其广泛应用于科研院校,企业研发单位和小批量生产打样。
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一、【等离子去胶机】功能特点:

(01)高品质不锈钢结构和固定装置;

(02)不锈钢托盘设计,可调节托盘间距;

(03)8K 镜面不锈钢腔体;

(04)13.56MHz 数字高频等离子发生器;

(05)直观的触摸屏,过程参数实时监控;

(06)方便的定期校准设备连接验证过程中使用的要求;

(07)支持各种工艺气体,如:氩气,氧,氢,氦和氟化气体;

(08)两个标准的浮子针阀流量控制器,用户可以根据需要来调节;

二、【等离子去胶机】技术参数:

(01)射频频率:13.56 MHz

(02)射频功率:0-300W 可调

(03)腔体材质:进口 316 镜面不锈钢

(04)腔体尺寸:240(L)*280(D)*200(H)mm

(05)腔体有效处理面积:230(L)× 205(D)mm

(06)处理产品尺寸:可处理 8 寸晶圆,向下兼容 6 寸、4 寸晶圆

(07)放电电极:导电铝合金专用电极

(08)放电形式:CCP & RIE 离子反应放电模式

(09)电极间距:可调整电极之间的距离,调整等离子体强度和密度,大大提升处理能力和效率

(10)气体流量控制器:浮子针阀流量控制器, 0-500ml/min

(11)气路数量:2 路气体,支持氧气,氩气,氮气,氢气等 (如需接入腐蚀性气体,需提前告知)

(12)真空计:有真空计

(13)系统控制:4.3寸触摸屏PLC控制

(14)电源供应:220V

(15)气管接口:φ8mm

(16)气体纯度:99.99%

(17)气体压力:0.3~0.6Mpa

(18)排气口:KF25

(19)整机功率:1000W

(20)外形尺寸:600mm(L)×550mm(W) ×580 mm(H)

(21)重量:80kg

晶圆清洗用-等离子清洗机.jpg



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