美国NXQ紫外掩膜光刻机

一、美国NXQ紫外掩膜光刻机产品概述：

NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。

三、产品特点：

1、可选支持单面对准和双面对准设计；

2、高清晰彩色双CCD镜头采用先进的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；

3、双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；

4、高清彩色双显示屏；

5、全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；

6、具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；

7、操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

8、操控手柄调控模式的*设计；

9、采用LED穿透物镜照明技术，具有优秀的对准亮度；

10、采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；

11、抗衍射反射的高效光学光路设计；

12、带安全保护功能的温度和气流传感器；

13、全景准直透镜光线偏差半角:<1.84度；

14、设备稳定性，耐用性超高；