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美国NXQ紫外掩膜光刻机

更新时间:2022-09-01

访问量:453

厂商性质:代理商

生产地址:美国

简要描述:
美国NXQ紫外掩膜光刻机NXQ4000 系列是高校、研究所和企业生产线生产的理想选择,支持最大 200 mm 的基板尺寸,以及易于使用的接口,具有简单的顶部掩模加载功能。NXQ4000 系列半自动掩模曝光机将创新设计与精确对准和曝光功能相结合。自动测序使系统非常易于学习和使用,非常适合多用户实验室。
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,能源,电子,航天,综合

一、美国NXQ紫外掩膜光刻机产品概述:

NXQ MASK ALIGNER光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,NXQ4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,稳定的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用。

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二、美国NXQ紫外掩膜光刻机技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um;

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s;

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器);

11、光强均匀性Uniformity:

<±1% over 2" 区域;

<±2% over 4" 区域;

<±3% over 6" 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm;

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

14、可选型号:

NXQ400-6  、NXQ400-8、NXQ800-6、NXQ8006 Sapphire、NXQ800-8 。


三、产品特点:

1、可选支持单面对准和双面对准设计;

2、高清晰彩色双CCD镜头采用先进的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);

3、双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);

4、高清彩色双显示屏;

5、全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;

6、具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;

7、操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;

8、操控手柄调控模式的*设计;

9、采用LED穿透物镜照明技术,具有优秀的对准亮度;

10、采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;

11、抗衍射反射的高效光学光路设计;

12、带安全保护功能的温度和气流传感器;

13、全景准直透镜光线偏差半角:<1.84度;

14、设备稳定性,耐用性超高;















 

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